Almindeligt basalt stof

Enkel vævning, stabil konstruktion

Den mest grundlæggende og udbredte vævede struktur bruges i almindeligt vævet basaltdug. Et stof med en symmetrisk struktur, stor stabilitet og begrænset åndbarhed fremstilles ved at veksle mellem placeringen af ​​hvert kædegarn over og under skudgarnet. Et af de karakteristiske kendetegn ved almindeligt vævet stof er det velkendte ternede mønster, der er skabt ved sammenfletning af kædetråde. Denne strukturs robuste konstruktion gør den velegnet til applikationer, der kræver stor dimensionsstabilitet, på trods af at den typisk er mindre fleksibel end andre væveteknikker.

Tilgængelige stofvægte

Forskellige stofvægte er inkluderet i den typiske basaltstofserie for at imødekomme forskellige forstærkningsbehov. Vævestrukturen bør tages i betragtning, når der anvendes større eller højere tex-fibre. Ifølge kilder kan den mekaniske ydeevne blive påvirket af en større grad af fiberkrympning i simple vævede tekstiler, men overdreven krympning kan ses i særligt tunge stoffer med store fibre. Af denne grund, i stedet for at bruge nominel gsm som den eneste parameter, skal stofvægt og garnstruktur vælges i fællesskab.

Fra kompositmaterialer til elektriske applikationer

Til strukturelle og elektroniske teknologiapplikationer anvendes almindelig basaltdug. Det kan bruges med termohærdende klæbemidler til at skabe basalt plastdele til biler, fly, skibe og husholdningsapparater. Inden for elektronik og elektroteknik bruges det også som et forstærkningsmateriale til isolering og som fundament for tage.
Fremragende trækstyrke, god belægningsvedhæftning og evnen til at modstå temperaturer så høje som 1800 grader F/982 grader gør basaltstof brandsikkert og ikke-brændbart. Derudover kan det behandles via vakuumimprægnering, SMC/BMC, harpiksoverførselsstøbning, manuel laminering, prepreg, pultrusion og harpiksfilmvævning. Almindelig basaltstof tilbyder en ligetil struktur, der kan vælges efter vægt og anvendelse for kunder, der leder efter stabile vævede armeringsstænger.